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CMOSのウエファー クリーニング機械1000RPM遠心乾燥した2つの流動ディディミアム水スプレー清浄機械

Product Details

起源の場所: トンコワン、中国

ブランド名: SHENHUA

証明: CE,UL

モデル番号: CMC-800

Payment & Shipping Terms

最小注文数量: 1セット

価格: negotiation

パッケージの詳細: 真空+plywoodの場合のパッケージ、場合のサイズ:1100*1300*2250 mm (L*W*H)

受渡し時間: 30~40日

支払条件: L/C、T/T、D/P、ウェスタン・ユニオン、Paypal、お金のグラム

供給の能力: 1年ごとの300sets

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Product Details
High Light:

CMOSのウエファーのクリーニング機械

,

1000RPMウエファーのクリーニング機械

,

1000RPMスプレー清浄機械

洗浄方法:
二重流体 DI ウォータースプレー洗浄
乾式法:
遠心乾燥
クリーニングプレート:
φ<550mm
純水供給:
>17MΩ(流量>7RPM)
洗浄圧力:
3~8kg/cm2
エア・フィルター:
1umx1pcs; 0.01um×1個
機械サイズ:
L800*W960*H1800
機械重量:
450キロ
洗浄方法:
二重流体 DI ウォータースプレー洗浄
乾式法:
遠心乾燥
クリーニングプレート:
φ<550mm
純水供給:
>17MΩ(流量>7RPM)
洗浄圧力:
3~8kg/cm2
エア・フィルター:
1umx1pcs; 0.01um×1個
機械サイズ:
L800*W960*H1800
機械重量:
450キロ
Product Description

製品説明

CMC-800CMOSウェーハ洗浄機 1000RPM 遠心式乾式2流体DI水スプレー洗浄機 主に、ウェーハ、CMOS、ホルダーなどのカメラモジュール製品のマイクロダストのクリーニングに使用されます。CMC-800 は、オーレ DI 水スキャン スプレー洗浄技術を使用することで、微小なゴミをほとんど洗い流さず、1000RPM の遠心乾燥技術を使用することで、CMC-800 は製品をすばやく乾燥させることができます。


機械の特徴:
1. カメラモジュール製品のホコリ除去専用設計。
2. 鏡面ステンレス構造で、クリーンルームに適しています。
3.クリーンプレートは製品に応じて特別に作られています。クリーンプレートは、さまざまな製品のクリーニング要件に応じて変更できます。
4. PLC 制御、簡単な操作。
5.透明な防爆フロントドア、安全な操作、観察に便利。
6. メーターで表示されるすべてのマシン。清掃状況は随時監視中です。
7. 2 ストリーム クリーン、高い洗浄精度、製品への損傷なし、非常に少ない DI 水消費。
8. スプレー ロッドを回転させます。二次汚染はありません。
9.静電気除去装置、クリーニングルームの熱装置を装備し、最高のクリーニング結果を達成するのに役立ちます。
10. 2 レベルの空気ろ過システムを装備し、圧縮空気は ISO8573.1 の基準を満たしています。
11. コンパクトな機械、設置面積が小さい。
12. RoHs 規格に準拠した純粋な DI 水を使用してください。


マシンスペック:

クリーニングプレート 特注品(洗浄板径<550mm)
クリーンメソッド 2ストリームクリーン
乾式法 高速遠心乾燥
電源 AC380V 50HZ
7KW
消費電力 洗浄力:3.5kw/h スタンバイ電力: 1kw/h
回転力 3馬力
環境濾過法 0.3μm;99.999%
空気ろ過方式 1μm×1;0.01μm×1
遠心回転速度 100~1500RPM
クリーン圧力 水圧:3~8Kgf/cm² 空気圧:0.2~0.5Mpa
純水供給 流量:>7LPM 抵抗率:>17MΩ
空気消費量 圧力:0.45-0.7Mpa;流量:>30m³/H(良好な清浄度)
DI水は直径を入れました ø12mm ソフトホースまたは PT1/2″ メスジョイント
エア供給径 ø12mmホース
水出口径 PT 1″メスジョイント
空気出口径 4″×2(エアポンプ装置が必要、風速3m/秒以上)
機械サイズ 880mm(L)×960mm(W)×1880mm(H)
機械重量 450キロ

 
機械picutre:

 

CMOSのウエファー クリーニング機械1000RPM遠心乾燥した2つの流動ディディミアム水スプレー清浄機械 0

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